Atomic Layer Deposition

Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications

Omschrijving

Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective.
Gratis verzending vanaf
€ 19,95 binnen Nederland
Schrijver
Kaariainen, Tommi, Cameron, David, Kaariainen, Marja-Leena, Sherman, Arthur
Titel
Atomic Layer Deposition
Uitgever
John Wiley & Sons Inc
Jaar
2013
Taal
Engels
Pagina's
272
Gewicht
572 gr
EAN
9781118062777
Afmetingen
241 x 160 x 22 mm
Bindwijze
Hardback

U ontvangt bij ons altijd de laatste druk!


Rubrieken

Boekstra